特許
J-GLOBAL ID：200903063962247501
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-066633
公開番号（公開出願番号）：特開2007-241137
出願日： 2006年03月10日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】 CDパフォーマンスが大幅に改善されたハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 露光光に対して透明な基板に掘り込み部を設け、透過する光の位相を制御したハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記基板掘り込み部に隣接する部分又は基板周辺部に設けられた遮光膜が、フッ素系ガスを主体とするエッチングガスを用いたエッチングプロセスにおいてエッチング可能な材料からなる膜Aを含むことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光光に対して透明な基板上に、位相差及び透過率を任意に制御したシフター層を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、マスクパターン上もしくは基板周辺部に実質的な光の遮蔽を目的として設けられた遮光性膜が、フッ素系ガスを主体とするエッチングガスを用いたエッチングプロセスにおいてエッチング可能な材料からなる膜Aを含むことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB14
, 2H095BC04
, 2H095BC05
, 2H095BC11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (11件)
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