特許
J-GLOBAL ID：200903064151534060
枚葉式ウェハ洗浄装置及びこれを利用したウェハ洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-025240
公開番号（公開出願番号）：特開2002-305175
出願日： 2002年02月01日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：
【要約】【課題】 枚葉式ウェハ洗浄装置及びこれを利用した枚葉式ウェハ洗浄方法を提供する。【解決手段】 水膜が形成されたウェハ上に洗浄ガスを噴射でき、水膜と近づいて小さいチャンバを形成しうるガス噴射装置を含む。ウェハ上の水膜及びガス噴射装置を近づけて小さいチャンバを形成した状態でガス噴射装置15を使って洗浄ガスを含んだ各種のガスを噴射させる。このように小さいチャンバを保持した状態で洗浄ガスを注入すれば、前記小さいチャンバ内には洗浄ガスの部分圧が大きくなって洗浄ガスが水膜に多く溶け込む。これにより、溶解度が高い洗浄溶液を使ってウェハを洗浄する場合、洗浄効率を高めることができ、ガス噴射装置に乾燥ガスを供給すれば水膜も乾燥できるので、構成が簡単である。
請求項（抜粋）：
表面にウェハが置かれて回転可能なチャックと、前記チャックの一側から前記ウェハ上に純水を供給して前記ウェハ上に水膜を形成する純水供給手段と、前記チャック上のウェハの上部に位置して前記水膜に洗浄ガスを含んだ各種のガスを噴射するガス注入チューブと、前記ガス注入チューブに連結されており、前記水膜に近づいて前記水膜と共に小さいチャンバを形成するガスガードとを含むガス噴射装置と、前記ガス注入チューブに連結されてガスを供給するガス供給手段とを含んでなることを特徴とする枚葉式ウェハ洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 645
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304 651
, B08B 5/00
H01L 21/304 645 Z
, H01L 21/304 643 D
, H01L 21/304 651 H
, B08B 5/00 Z
3B116AA03
, 3B116AB08
, 3B116AB33
, 3B116BB46
, 3B116BB88
