特許
J-GLOBAL ID：200903064185856422

スパッタ装置およびスパッタ装置用キャリア

発明者：
浅野 雅朗

浅野 雅朗 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-284545
公開番号（公開出願番号）：特開2007-096056
出願日： 2005年09月29日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】 処理基板とターゲットとを、平行に対向させ、且つ、処理基板を、ターゲットに対して上側、水平もしくは鉛直方向から斜めに傾けた状態として処理する場合において、処理基板の自重により、ソリが発生し、これが原因で、成膜される膜品質にばらつきが発生するという問題を、解決できる方法を採り入れたインラインスパッタ装置を提供する。【解決手段】 処理基板の成膜する側の面とターゲットとを、平行に対向させ、且つ、処理基板側をターゲットに対して上側として、水平もしくは鉛直方向から斜めに傾けて配しているもので、前記キャリアには、搭載された処理基板のスパッタ処理面側でない裏面側から、裏面の少なくとも一部を、静電吸着により吸着して、裏面側に引っ張る静電吸着部を設けている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ガラス基板をベース基板とする処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、該処理基板の一面側にスパッタ成膜を施すスパッタ装置であって、処理基板の成膜する側の面とターゲットとを、平行に対向させ、且つ、処理基板側をターゲットに対して上側として、水平もしくは鉛直方向から斜めに傾けて配しているもので、前記キャリアには、搭載された処理基板のスパッタ処理面側でない裏面側から、裏面の少なくとも一部を、静電吸着により吸着して、裏面側に引っ張る静電吸着部を設けていることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ,  C23C 14/34 ,  B65G 49/06
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  C23C14/34 J ,  B65G49/06 A
Fターム (17件)：
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA45 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029JA05 ,  4K029JA06 ,  4K029KA02 ,  4K029KA09 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA18 ,  5F031GA08 ,  5F031GA09 ,  5F031MA29 ,  5F031PA13
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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