特許
J-GLOBAL ID：200903064318555366
レーザー加工方法、レーザー加工装置、電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 田中 克郎
, 大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-268784
公開番号（公開出願番号）：特開2006-082106
出願日： 2004年09月15日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】トップハット分布のレーザービームによる加工を行う場合において、光利用効率の向上を図ることを可能とする技術を提供する。 【解決手段】エネルギー強度分布がガウシアン分布(a)であるレーザービーム(LB)を発生させる第1過程と、レーザービームの波面に対して所定の位相変調を加え、当該レーザービームをその中心ほど相対的に位相が進み、当該中心から離れるほど相対的に位相が遅れるように整形する第2過程と、第2過程を経て整形されたレーザービームの波面に対して所定の位相変調を加え、当該レーザービームをその中心ほど相対的に位相が遅れ、当該中心から離れるほど相対的に位相が進むように整形する第3過程と、第2及び第3過程を経てエネルギー強度分布が略平坦な分布(b)となったレーザービームを被加工体(100)に照射して当該被加工体を加工する第4過程と、を含むレーザー加工方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
エネルギー強度分布がガウシアン分布であるレーザービームを発生させる第1過程と、
前記レーザービームの波面に対して、ビーム径方向の位置を変数とし、負の傾きを有する一次関数で表現される位相分布による位相変調を加えることにより、当該レーザービームをその中心ほど相対的に位相が進み、当該中心から離れるほど相対的に位相が遅れるように整形する第2過程と、
前記第2過程を経て整形された前記レーザービームの波面に対して、ビーム径方向の位置を変数とし、正の傾きを有するn次関数(nは2以上の自然数)で表現される位相分布による位相変調を加えることにより、当該レーザービームをその中心ほど相対的に位相が遅れ、当該中心から離れるほど相対的に位相が進むように整形する第3過程と、
前記第2及び第3過程を経てエネルギー強度分布が略平坦な分布となった前記レーザービームを被加工体に照射して当該被加工体を加工する第4過程と、
を含む、レーザー加工方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4E068CA01
, 4E068CB08
, 4E068CD03
, 4E068CD05
, 4E068CD08
, 4E068CD13
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (2件)
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