処理装置ならびに情報蓄積装置および情報蓄積方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-148717
公開番号（公開出願番号）：特開2002-341934
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】処理の履歴を容易に把握することができる処理装置、ならびにこのような処理の履歴を容易に蓄積することができる情報蓄積装置および情報蓄積方法を提供すること。【解決手段】被処理体Wに対して所定の処理を実施する複数の処理部と各処理部間で被処理体を搬送する搬送装置とを備えた処理装置本体101と、搬送装置を含む処理装置全体を制御する第1の制御部103と、複数の処理部を制御する第2の制御部104と、第1の制御部103と第2の制御部104との間で授受される信号を取り込みその信号に対応する複数種類の情報を蓄積する情報蓄積部106と、情報の種類に応じて情報の蓄積頻度を選択する情報蓄積選択機構107とを具備する。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して所定の処理を実施する処理装置本体と、前記処理装置本体を制御する制御機構と、前記制御機構から出力される信号を取り込みその信号に基づく複数種類の情報を蓄積する情報蓄積部と、前記情報の種類に応じて情報の蓄積頻度を選択する情報蓄積選択機構とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

G05B 23/02 301 , H01L 21/027

FI (2件)：

G05B 23/02 301 V , H01L 21/30 502 G

Fターム (10件)：

5F046AA28 , 5F046DA30 , 5H223AA05 , 5H223AA15 , 5H223BB02 , 5H223CC08 , 5H223CC09 , 5H223DD03 , 5H223EE06 , 5H223EE30

引用特許：

審査官引用 (9件)

異常解析用データ収集方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-319872 出願人：富士電機株式会社
制御システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-168160 出願人：東京エレクトロン株式会社
半導体製造プロセス安定化支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-056611 出願人：株式会社日立製作所

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