処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-004802
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221197
出願日： 2003年01月10日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】メンテナンスのために必要とされるスペースを極力小さくし、簡易なメンテナンス操作の実現を可能とし、処理室のメンテナンス性の向上を図った処理装置を提供する。【解決手段】処理室と前記処理室に接続される被接続部材とを備えた処理装置において、処理室54H、54Lは、被接続部材52に対しレール部材150により相対的に離間可能に接続され、処理室54H、54Lを回動するための回転機構部300を更に備え、略同一平面内で離間及び回動可能に構成されたことを特徴とする。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

処理室と前記処理室に接続される被接続部材とを備えた処理装置において、前記処理室は、前記被接続部材に対し相対的に離間可能に接続され、前記処理室を回動するための回転機構部を更に備え、略同一平面内で離間及び回動可能に構成されたことを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/68 , H01L21/205 , H01L21/31

FI (3件)：

H01L21/68 A , H01L21/205 , H01L21/31 E

Fターム (34件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA02 , 5F031GA42 , 5F031GA43 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA33 , 5F031JA01 , 5F031JA46 , 5F031KA20 , 5F031LA15 , 5F031MA02 , 5F031MA28 , 5F031MA30 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031PA06 , 5F045AA03 , 5F045AA20 , 5F045BB08 , 5F045BB10 , 5F045DQ14 , 5F045EB06 , 5F045EB08 , 5F045EB09 , 5F045EB10 , 5F045EJ02

引用特許：

出願人引用 (6件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-152196 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-195631 出願人：国際電気株式会社
特開平4-254350

全件表示

審査官引用 (6件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-152196 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-195631 出願人：国際電気株式会社
特開平4-254350

全件表示

前のページに戻る