特許
J-GLOBAL ID:200903064879587801
フォトレジスト塗布液
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-244423
公開番号(公開出願番号):特開平8-110634
出願日: 1994年10月07日
公開日(公表日): 1996年04月30日
要約:
【要約】【目的】 フォトレジスト塗布液の塗布方式において、コストや生産性で優位であるロールコータやバーコーターによる塗布方式を採用した場合でも、要求されるレベルの均一な塗膜を形成可能なフォトレジスト塗布液を提供する。【構成】 静置乾燥する塗布方式に適したフォトレジスト塗布液において、該塗布液中の溶剤の1部がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、および3-エトキシプロピオン酸エチルから選択された少なくとも2種類の組合せであって、塗布液の溶剤中に占める上記溶剤の和の比率が60〜100重量%で、かつ該溶剤比率がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート+プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート>3-メトキシプロピオン酸メチル+3-エトキシプロピオン酸エチル(重量比)の不等式を満足し、塗布液粘度の範囲が5〜60CPSであることを特徴とするフォトレジスト塗布液。
請求項(抜粋):
静置乾燥する塗布方式に適したフォトレジスト塗布液において、該塗布液中の溶剤の1部がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、および3-エトキシプロピオン酸エチルから選択された少なくとも2種類の組合せであって、塗布液の溶剤中に占める上記溶剤の和の比率が60〜100重量%で、かつ該溶剤比率がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート+プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート>3-メトキシプロピオン酸メチル+3-エトキシプロピオン酸エチル(重量比)の不等式を満足し、塗布液粘度の範囲が5〜60CPSであることを特徴とするフォトレジスト塗布液。
IPC (4件):
G03F 7/004 501
, G02F 1/1343
, G03F 7/022
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (11件)
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フオトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-170199
出願人:三菱化成株式会社
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特開平4-270346
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特開平4-270346
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レジスト塗布組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-197813
出願人:日本合成ゴム株式会社
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ポジ型レジスト溶液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-175710
出願人:東京応化工業株式会社
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塗布液組成物及び塗膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-127808
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開平2-258081
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集積回路
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-039956
出願人:日本電気株式会社
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特開平4-270346
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特開平2-258081
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特開平4-270346
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