特許
J-GLOBAL ID：200903064927326748
光情報記録媒体用スタンパの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288147
公開番号（公開出願番号）：特開2000-113526
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】露光スポットのビーム径よりも細い溝形状の形成を可能にする光情報記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光情報記録媒体用スタンパの製造方法では、ガラス基板1上に、露光により反応せずフォトレジストと混合しない材料からなる下層2を形成し、下層上にフォトレジスト層3を積層した構成からなる原盤を用い、フォトレジスト層3をマスク層として、プラズマあるいは光オゾンアッシング方法を用いて下層2をドライエッチングして溝形成するので、露光ビームスポットのビーム径よりも細い溝を下層2に形成することができ、さらにこの下層2の上に導電皮膜4を形成してニッケル電鋳を行い溝パターンが転写されたニッケル板5を形成した後、ニッケル板を原盤から剥離し、裏面研磨、洗浄、内外径加工を行えば、露光スポットのビーム径よりも細い溝形状を有するスタンパ6が得られる。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に、露光により反応せず、後述のフォトレジストと混合しない材料からなる層(以降、下層と称する)を、膜厚がスタンパ表面に形成される溝の深さと同じ値となるように塗布する工程と、この下層膜を塗布後に加熱処理する工程と、下層上にフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジスト膜を熱処理する工程と、光ビームにより所定の溝パターンをフォトレジス膜へ露光する工程と、前記露光済みフォトレジスト膜を現像・洗浄・乾燥して所定の溝パターンを形成する工程と、このフォトレジスト層をマスクとして下層をエッチングして下層に微細パターンを形成し、その後フォトレジスト層を除去して微細パターンを有するガラス原盤を作製する工程と、前記ガラス原盤の表面に導電皮膜を形成する工程と、前記導電皮膜をニッケル電鋳してフォトレジストの溝パターンと凹凸が逆転した溝パターンを有するニッケル板を作製する工程と、前記ニッケル板を剥離・洗浄・裏面研磨・内外径加工してスタンパを作製する工程とで構成される光情報記録媒体用スタンパの製造方法において、前記下層膜をエッチングする手段が、プラズマアッシングあるいは光オゾンアッシング方法によるドライエッチングであることを特徴とする光情報記録媒体用スタンパの製造方法。
IPC (2件)：
G11B 7/26 511
, C25D 1/00 321
G11B 7/26 511
, C25D 1/00 321
5D121BB02
, 5D121BB05
, 5D121BB21
, 5D121BB28
, 5D121BB33
, 5D121BB38
, 5D121CB05
, 5D121CB06
, 5D121CB07
, 5D121CB09
