特許
J-GLOBAL ID：200903065031427479

基板洗浄方法、基板洗浄装置、制御プログラム、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体

発明者：
関口 賢治

関口 賢治 について

, 
大野 広基

大野 広基 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-349132
公開番号（公開出願番号）：特開2007-157898
出願日： 2005年12月02日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】基板上のパーティクルを効果的に除去することができ、しかも基板へのダメージを許容範囲とすることができる基板洗浄方法を提供すること。【解決手段】基板の表面に液体と気体とからなる2流体スプレーを供給する工程(ステップ3)を含む基板洗浄方法であって、基板の表面に液体と気体とからなる2流体スプレーを供給する工程は、液体として純水とイソプロピルアルコールの混合液を用い、その混合液中のイソプロピルアルコールの濃度を10〜60体積%とし、パーティクルの除去率を80%以上とする。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板の表面に液体と気体とからなる2流体スプレーを供給する工程を含む基板洗浄方法であって、 基板の表面に液体と気体とからなる2流体スプレーを供給する工程は、液体として純水とイソプロピルアルコールの混合液を用い、その混合液中のイソプロピルアルコールの濃度を10〜60体積%とし、パーティクルの除去率を80%以上とすることを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/02
FI (4件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 648G ,  B08B3/02 B
Fターム (13件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB42 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  3B201CD41
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 洗浄装置および洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127984   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM