特許
J-GLOBAL ID:200903065123998693

露光装置及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-042386
公開番号(公開出願番号):特開2008-205377
出願日: 2007年02月22日
公開日(公表日): 2008年09月04日
要約:
【課題】性能の劣化を抑制でき、基板を良好に露光できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、マスクの所定面の少なくとも一部と対向する位置に配置され、所定面での照明光の照明領域を規定する光学部材と、マスクに入射せずに光学部材に入射し、光学部材で反射した照明光の少なくとも一部が所定部材に入射することを抑制する抑制部とを備えている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
マスクの所定面を照明光で照明し、前記マスクで反射した前記照明光の反射光で基板を露光する露光装置であって、 前記マスクの所定面の少なくとも一部と対向する位置に配置され、前記所定面での前記照明光の照明領域を規定する光学部材と、 前記マスクに入射せずに前記光学部材に入射し、該光学部材で反射した前記照明光の少なくとも一部が所定部材に入射することを抑制する抑制部と、を備えた露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件):
H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521
Fターム (3件):
5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GB07
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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