特許
J-GLOBAL ID：200903065262123707

露光装置

発明者：
竹内 仁

竹内 仁 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202616
公開番号（公開出願番号）：特開2000-036449
出願日： 1998年07月17日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】 露光光の照射による反射鏡の変形を抑制し、微細パターンを高精度に転写形成することができる露光装置を提供することである。【解決手段】 露光処理に使用するマスクRのパターン面をCCDカメラ111で撮像し、該パターンの透光部及び遮光部の位置をパターン解析部112により解析し、これに基づき温度分布予測部113は、該パターンの像を含む照明光ELの照射による反射鏡M2の経時的な温度分布の変化を予測し、予測データ114とする。温度制御部104は、露光処理時において、予測データ114に基づき反射鏡M2の各分割領域毎に設けられたヒータ101を選択的に作動して反射鏡M2の温度が全体的に均一となるように加熱する。反射鏡M2の全体的な温度はファン102を作動することにより調節する。
請求項（抜粋）：
照明光学系により照明されたマスクのパターンの像を、反射鏡を有する投影光学系により感光基板上に投射するようにした露光装置において、前記マスクのパターンに基づき照明光の照射による前記反射鏡の温度分布の変化を予測する予測装置と、前記予測装置による予測結果に基づき前記反射鏡の温度が全体的に均一となるように調節する温度制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
H01L 21/30 517 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 E
Fターム (15件)：
5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC13 ,  5F046DA12 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DC08 ,  5F046DD06
引用特許：
審査官引用 (7件)
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