特許
J-GLOBAL ID：200903065470692847

多重露光を行うためのマスク、該マスクによる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法

発明者：
大嵜 由美子

大嵜 由美子 について

, 
川島 美代子

川島 美代子 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-057505
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244190
出願日： 2000年03月02日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】【課題】パターン間の最適露光量を一致させ、かつパターン間の露光量に対する線幅変化を揃えることができ、パターンに共通な露光量範囲を広く取ることが可能となる多重露光を行うためのマスク、該マスクによる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法を提供する。【解決手段】被露光基板上に、周期パターンを有する第1パターンの露光と互いに線幅が同じで線幅同志の間隔が異なる複数の微細線群を有する第2パターンの露光を含む多重露光を行うための前記第1パターンのマスクであって、前記第1パターンは、それぞれ前記微細線群の1つと重なる線幅と線幅同志の間隔との比率が互いに等しい複数の周期パターンを有するマスクを構成する。
請求項（抜粋）：
被露光基板上に、周期パターンを有する第1パターンの露光と互いに線幅が同じで線幅同志の間隔が異なる複数の微細線群を有する第2パターンの露光を含む多重露光を行うための前記第1パターンのマスクであって、前記第1パターンは、それぞれ前記微細線群の1つと重なる線幅と線幅同志の間隔との比率が互いに等しい複数の周期パターンを有することを特徴とするマスク。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A
Fターム (10件)：
2H095BA05 ,  2H095BB02 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM