特許
J-GLOBAL ID：200903065673198597
光酸発生剤及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-245700
公開番号（公開出願番号）：特開2009-084573
出願日： 2008年09月25日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】製造が容易で製造コストが比較的低く、光に対する安定性に優れて保管及び取扱の容易な光酸発生剤及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物の提供。【解決手段】次の式で表示される光酸発生剤とこれを用いた化学増幅型レジスト組成物。R1、R2及びR3は、C1〜C10のアルキル基であるものとR2とR3とが環を形成するものがあり、その環に少なくとも1つのCH2がS、O、N、ケトン基で置換が可能で、さらにC1〜C20のアルキル基、シクロアルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、水酸基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン族元素を一つ有してもよい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
化学式1及び化学式2のうち何れか一つの式で表示される光酸発生剤:
IPC (8件)：
C09K 3/00
, C07C 381/12
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07D 333/46
, C07D 335/02
, C07D 339/08
, H01L 21/027
C09K3/00 K
, C07C381/12
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C07D333/46
, C07D335/02
, C07D339/08
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA11
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF15
, 2H025BG00
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4C023JA05
, 4C023PA07
, 4H006AA03
