特許
J-GLOBAL ID：200903065900361670

基板の乾燥装置および洗浄装置並びに乾燥方法および洗浄方法

発明者：
藤田 巧

藤田 巧 について

, 
柴 一彦

柴 一彦 について


出願人/特許権者：
株式会社プレテック

株式会社プレテック について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-226226
公開番号（公開出願番号）：特開2001-053051
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 洗浄液で洗浄後の基板、特にフッ酸処理後の酸化膜等が除去されたシリコンウエーハに対して、その表面にウオーターマークや汚染等を発生させないで清浄な状態に乾燥させることができる乾燥装置と乾燥方法。【解決手段】 被乾燥基板表面を純水で濯ぎ、純水水膜を噴射不活性ガスで排除して乾燥する乾燥装置であって、少なくとも前記被乾燥基板を水平に保持し回転を可能とする回転保持手段と、被乾燥基板の上方でかつ中心側に位置し被乾燥基板の表面に向けて不活性ガスを噴射する不活性ガス噴射手段と、前記被乾燥基板の上方でかつ外周側に位置し被乾燥基板の表面に向けて純水を噴射する純水噴射手段とを具備し、前記純水または不活性ガスを噴射する各ノズルを保持すると共に、被乾燥基板の表面に対して平行でかつ被乾燥基板の中心から外周にかけて径方向に移動させるノズル保持移動手段を具備する乾燥装置および乾燥方法。
請求項（抜粋）：
被乾燥基板表面を純水で濯ぎ、純水水膜を噴射不活性ガスで排除して乾燥する乾燥装置であって、少なくとも、前記被乾燥基板を水平に保持し、回転を可能とする回転保持手段と、被乾燥基板の上方でかつ中心側に位置し、被乾燥基板の表面に向けて不活性ガスを噴射する不活性ガス噴射手段と、前記被乾燥基板の上方でかつ外周側に位置し、被乾燥基板の表面に向けて純水を噴射する純水噴射手段とを具備し、前記純水または不活性ガスを噴射する各ノズルを保持すると共に、被乾燥基板の表面に対して平行でかつ被乾燥基板の中心から外周にかけて径方向に移動させるノズル保持移動手段を具備することを特徴とする基板の乾燥装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  F26B 21/00
FI (6件)：
H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 D ,  B08B 3/08 A ,  B08B 3/12 A ,  F26B 21/00 B
Fターム (14件)：
3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB44 ,  3B201BB93 ,  3B201CB21 ,  3B201CC12 ,  3L113AB02 ,  3L113AB08 ,  3L113AC48 ,  3L113AC76 ,  3L113BA34 ,  3L113DA04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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