特許
J-GLOBAL ID：200903065975761320

フェノール系ポリマー及びこれを含有するフォトレジスト

発明者：
ジェームズ・エフ・キャメロン

ジェームズ・エフ・キャメロン について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-060772
公開番号（公開出願番号）：特開2008-287223
出願日： 2008年03月11日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：
【課題】本発明は、ポリマー主鎖から間隔が空けられて位置するフェノール性基及びフォト酸不安定性基を含む、新規なポリマーを含むフォトレジストを提供する。【解決手段】本発明は、ポリマー主鎖から間隔が空けられて位置するフェノール性基及びフォト酸不安定性基を含む、新規なポリマーに関する。本発明の好ましいポリマーは、化学増幅型ポジ型レジストの成分として有用である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
光活性成分及び樹脂を含むフォトレジスト組成物であって、樹脂が、i)1種以上の、間隔が空けられて位置するフェノール性基及びii)1種以上のフォト酸不安定性基を含むフォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 12/24
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F12/24
Fターム (32件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07P ,  4J100AJ02R ,  4J100AJ08R ,  4J100AK31R ,  4J100AK32R ,  4J100AL03R ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA25 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-196082   出願人：日本ゼオン株式会社
審査官引用 (5件)
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