特許
J-GLOBAL ID：200903066013667086
最適化技術を使用して基板のオフセットを決定する方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-355734
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210698
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウエハの移送期間を増加させることなく、ウエハが移送されている間に作動するウエハアライメントのための方法および装置を提供する。【解決手段】 ウエハを運ぶサポートブレードを使用したウエハのダイナミックアライメントが、モジュール内におけるウエハの望ましい位置に対するウエハのオフセットの近似値を決定することによって、提供される。この決定は、オフセット計算期間をウエハ移送期間以内に効果的に維持する、最適化プログラムのステートメントの形態をとる。方法およびコンピュータをプログラムすることによって、ウエハが、第1の位置からエンドエフェクタを使用して取り出されるようにし、エンドエフェクタが、取り出されたウエハを第1の位置から1組のセンサを通過するように移送して、センサデータを生成するように、動かされるようにする。
請求項（抜粋）：
望ましいウエハ位置に対するウエハの未知のオフセット量を決定するための方法であって、エンドエフェクタを使用して第1の位置からウエハを取り出す動作と、前記取り出されたウエハが、前記第1の位置から1組のセンサを通過するように搬送されて、センサデータを生成するように、前記エンドエフェクタを動かす動作と、未知のオフセットの近似値を決定するために、最適化プログラムを使用してセンサデータを処理する動作とを備える方法。
引用特許：
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