特許
J-GLOBAL ID：200903066284040402

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
澤田 康志

澤田 康志 について

, 
田口 典幸

田口 典幸 について

, 
柴田 哲司

柴田 哲司 について


出願人/特許権者：
松下電工株式会社

松下電工株式会社 について


代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-109253
公開番号（公開出願番号）：特開2003-303814
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理能力が高くて均一なプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 反応容器1の外側に電極2、3、4を設ける。反応容器1内の電極2、3、4間の空間を放電空間5とする。放電空間5にプラズマ生成用ガスを供給する。電極2、3、4間に電圧を印加する。放電空間5において大気圧近傍の圧力下で放電を生じさせる。プラズマPを放電空間5から吹き出す。放電空間5のプラズマ生成用ガスの流れ方向と略平行な方向に二つの電極2、3を、放電空間5のプラズマ生成用ガスの流れ方向と略垂直な方向に二つの電極2、4をそれぞれ対向配置する。放電空間5のプラズマ生成用ガスの流れ方向と略平行な方向に対向配置した電極2、3間と放電空間5のプラズマ生成用ガスの流れ方向と略垂直な方向に対向配置した電極2、4間とに電圧を印加する電源6を備える。
請求項（抜粋）：
絶縁材料で形成された反応容器の外側に複数の電極を設けると共に反応容器内における電極間の空間を放電空間として形成し、放電空間にプラズマ生成用ガスを供給すると共に電極間に電圧を印加することによって、放電空間において大気圧近傍の圧力下で放電を生じさせ、この放電によって生成されたプラズマを放電空間から吹き出すプラズマ処理装置において、放電空間におけるプラズマ生成用ガスの流れ方向と略平行な方向に二つの電極を対向配置すると共に放電空間におけるプラズマ生成用ガスの流れ方向と略垂直な方向に二つの電極を対向配置し、放電空間におけるプラズマ生成用ガスの流れ方向と略平行な方向に対向配置した電極間と放電空間におけるプラズマ生成用ガスの流れ方向と略垂直な方向に対向配置した電極間とに電圧を印加するための電源を備えて成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/513 ,  H05H 1/24
FI (5件)：
B01J 19/08 E ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/513 ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 101 E
Fターム (37件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030DA03 ,  4K030DA04 ,  4K030FA01 ,  4K030JA09 ,  4K030KA17 ,  4K030KA30 ,  4K030LA11 ,  5F004AA09 ,  5F004AA14 ,  5F004BA03 ,  5F004BB13 ,  5F004BC08 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F004EB08
引用特許：
審査官引用 (6件)
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