特許
J-GLOBAL ID：200903066348359262
エッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-337868
公開番号（公開出願番号）：特開2006-147946
出願日： 2004年11月22日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の(211)面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン基板、特に表面が(100)面であるシリコン基板をウェットエッチングする際に用いられるアルカリ性溶液を含有すると共に、Ca、Cu、Mg、Ni、Zn又はSnの少なくとも1種の金属を含有したエッチング液とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
シリコン基板をウェットエッチングする際に用いられ且つAl又はPbの少なくとも1種の金属濃度が所定の濃度以下であるアルカリ性溶液を含有すると共に、Ca、Cu、Mg、Ni、Zn又はSnの少なくとも1種の金属を含有するものであることを特徴とするエッチング液。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/308 B
, B41J3/04 103H
2C057AF93
, 2C057AP02
, 2C057AP25
, 2C057AP33
, 2C057AQ02
, 5F043AA02
, 5F043BB02
, 5F043FF03
, 5F043GG10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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