特許
J-GLOBAL ID：200903066506625714

表面倣い測定装置、表面倣い測定方法、表面倣い測定プログラムおよび記録媒体

発明者：
野田 孝

野田 孝 について


出願人/特許権者：
株式会社ミツトヨ

株式会社ミツトヨ について


代理人 (3件)： 木下 實三 ,  中山 寛二 ,  石崎 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-161607
公開番号（公開出願番号）：特開2005-345123
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
【課題】 被測定物表面の状態に応じて倣い速度やサンプリングピッチなどの測定条件を適切に調整できる表面倣い測定装置等を提供する。【解決手段】 倣い走査中に取得した測定データから走査地点の曲率半径を算出する曲率半径算出手段543と、算出された曲率半径に応じて倣いプローブの進行速度を決定する進行速度決定部544と、算出された曲率半径に基づいてサンプリングピッチを決定するサンプリングピッチ決定部546と、を備える。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
被測定物表面の法線方向に沿った前記被測定物表面との相対位置を検出する検出部を有するとともに、前記検出部と前記被測定物表面との前記相対位置が予め設定された基準位置を中心とする所定範囲内に保たれる状態で前記被測定物表面を倣い走査する倣いプローブと、 前記倣いプローブを移動させる移動手段と、 前記検出部の出力および前記移動手段の駆動量を所定のサンプリングピッチでサンプリングして測定データとして記憶する測定データ記憶部と、 前記測定データに基づいて前記被測定物表面の表面状態を判定する表面状態判定手段を含み、前記表面状態の判定結果に応じて、前記倣いプローブを進行させる進行速度と前記サンプリングピッチとを含む測定パラメータおよび制御ゲインを含む制御パラメータのうちの少なくとも一のパラメータを決定あるいは調整して適応測定制御条件を決定する測定条件決定部と、 前記進行速度に応じて前記倣いプローブを進行させる倣いベクトルを指令する倣いベクトル指令部と、 前記倣いベクトルと前記制御パラメータに従って前記移動手段を駆動制御する駆動制御手段と、を備える ことを特徴とする表面倣い測定装置。
IPC (2件)：
G01B21/20 ,  G01B21/00
FI (2件)：
G01B21/20 101 ,  G01B21/00 E
Fターム (15件)：
2F069AA04 ,  2F069AA57 ,  2F069AA66 ,  2F069GG02 ,  2F069GG62 ,  2F069HH01 ,  2F069JJ08 ,  2F069JJ28 ,  2F069LL02 ,  2F069MM26 ,  2F069MM32 ,  2F069MM38 ,  2F069NN00 ,  2F069NN15 ,  2F069NN16
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (11件)
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