特許
J-GLOBAL ID：200903066792832454
高濃度ガス溶解水の製造方法及び製造装置、製造した高濃度ガス溶解水の使用方法
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-141037
公開番号（公開出願番号）：特開2008-272722
出願日： 2007年04月26日
公開日（公表日）： 2008年11月13日
要約：
【課題】従来から高濃度酸素溶解水の製造は種々の方法で行われてきたが、いずれも得られる濃度が不十分であったり、コスト的に実現が難しかったりした。本発明は、高濃度酸素溶解水を簡単かつ安価で製造できる方法や装置を提供する。【解決手段】酸素含有気泡を有する2以上の水流34を衝突させることにより前記気泡をより微細化するとともに、気泡中の酸素を前記水流中に大量に溶解させる。両水流は両水流の流速の和に等しい速度で衝突するが、その衝撃は単独の水流が静止面に衝突する際の数倍から十数倍に達し、各水流に最大限の衝撃が与えられ、水流中の気泡が破壊されて微細化し、気泡中の酸素の水流中への溶解が促進される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
気泡を有する2以上の水流を衝突させることにより前記気泡中のガスを前記水流中に溶解させることを特徴とする高濃度ガス溶解水の製造方法。
IPC (10件)：
B01F 1/00
, B01F 5/02
, C02F 3/20
, B01F 15/02
, B01F 5/00
, C02F 1/74
, A01K 63/04
, B08B 3/08
, H01L 21/304
, A61H 33/00
B01F1/00 A
, B01F5/02 Z
, C02F3/20 Z
, B01F15/02 A
, B01F5/00 D
, B01F5/00 G
, C02F1/74 101
, A01K63/04 C
, B08B3/08 Z
, H01L21/304 647Z
, A61H33/00 G
2B104EB01
, 2B104EB03
, 2B104ED16
, 2B104ED19
, 2B104EF09
, 2B104EF11
, 3B201AA03
, 3B201AA46
, 3B201BB92
, 3B201BB98
, 4C094AA01
, 4C094BB15
, 4C094BC11
, 4C094DD02
, 4C094DD14
, 4C094EE05
, 4C094EE06
, 4C094EE20
, 4C094GG05
, 4C094GG17
, 4D029AA01
, 4D029BB10
, 4D029BB11
, 4D029BB13
, 4D050AA12
, 4D050AB06
, 4D050BB01
, 4D050BC01
, 4D050BC02
, 4D050BD01
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4G035AA01
, 4G035AB15
, 4G035AC01
, 4G035AC14
, 4G035AC44
, 4G035AE13
, 4G035AE15
, 4G035AE19
, 4G037AA01
, 4G037EA01
, 5F157AC01
, 5F157BC41
, 5F157BC52
, 5F157BD25
, 5F157BD26
, 5F157BD28
, 5F157BD33
出願人引用 (2件)
-
曝気装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-288229
出願人：岡田産業株式会社
-
ナノバブルの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-062044
出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社REO研究所
審査官引用 (8件)
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