特許
J-GLOBAL ID：200903067366220057

低融点ガラスのパターニング方法

発明者：
間瀬 恵二

間瀬 恵二 について

, 
神田 真治

神田 真治 について


出願人/特許権者：
株式会社不二製作所

株式会社不二製作所 について


代理人 (1件)： 小倉 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-243809
公開番号（公開出願番号）：特開2000-071175
出願日： 1998年08月28日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：
【要約】【課題】低融点ガラスを高精細に加工するパターニング方法を提供する。【解決手段】基板上の全面に形成したブラスト性を有する低融点ガラス層の表面に感光性オリゴマー及び/又はモノマー100%もしくはこれらを含む樹脂液から成る感光性樹脂層を形成し、露光してレジストパターンを形成し、好ましくは、露光後、前記低融点ガラス層上の未硬化感光性樹脂液を加熱などの手段により低融点ガラス層中に拡散あるいは、含浸させ又は蒸発させて除去し、ブラスト加工する。
請求項（抜粋）：
基板上の全面にブラスト性を有する低融点ガラス層を形成し、該低融点ガラス層の表面に感光性オリゴマー及び/又はモノマーの樹脂液から成る感光性樹脂層を形成し、露光してレジストパターンを形成し、ブラスト加工することを特徴とする低融点ガラスのパターニング方法。
IPC (4件)：
B24C 1/04 ,  C03C 19/00 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02
FI (5件)：
B24C 1/04 F ,  B24C 1/04 C ,  C03C 19/00 A ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
Fターム (17件)：
4G059AA08 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AC01 ,  4G059AC30 ,  5C027AA09 ,  5C040GB08 ,  5C040GF19 ,  5C040JA15 ,  5C040JA17 ,  5C040JA32 ,  5C040KA08 ,  5C040KA10 ,  5C040KA16 ,  5C040KB03 ,  5C040LA17 ,  5C040MA24
引用特許：
審査官引用 (6件)
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