化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び超分子とその製法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-369278
公開番号（公開出願番号）：特開2006-201762
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：

【課題】ArFエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、特に、ラインエッジラフネスが良好である化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリ水溶液に対して不溶又は難溶性のポリマーであるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、下式(I)で示される化合物とを含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(ZはC数2〜14、AはC数3〜14、WはH、C数1〜12のアルキル、C数2〜12のアルキルアルコキシ又は式(II)で示される基。(Xは二価の連結基、RはH、C数1〜6のアルキル又はC数3〜6のシクロアルキル。YはC数3〜12で脂環式炭化水素基を完成するのに必要な原子。lは0又は1。))【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アルカリ水溶液に対して不溶又は難溶性のポリマーであるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、下式(I)で示される化合物とを含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA28 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

レジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-014064 出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (6件)

塗料組成物、塗装仕上げ方法及び塗装物品
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-329636 出願人：日本油脂株式会社
特開平4-234868
化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-082963 出願人：住友化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る