化学増幅型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-082963
公開番号（公開出願番号）：特開2003-280200
出願日： 2002年03月25日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスを与えるポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤、及び下式(I)で表される化合物を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(I)(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に直鎖または分岐の炭素数1〜4の炭化水素基を表す。R5、R6は、それぞれ独立に炭素数5〜20の脂肪族環状構造を有する脂肪族炭化水素基を表す。また、nは0〜6の整数を表す。nが0の場合は、単結合を意味する。)

請求項（抜粋）：

それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤、及び下式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(I)(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に直鎖または分岐の炭素数1〜4の炭化水素基を表す。R5、R6は、それぞれ独立に炭素数5〜20の脂肪族環状構造を有する脂肪族炭化水素基を表す。また、nは0〜6の整数を表す。nが0の場合は、単結合を意味する。)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (8件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-095877 出願人：ジェイエスアール株式会社
環式オレフィン重合体および添加剤を含むフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-065165 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-108824 出願人：ジェイエスアール株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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