特許
J-GLOBAL ID:200903068981020897

塗布装置および塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-283988
公開番号(公開出願番号):特開2006-305548
出願日: 2005年09月29日
公開日(公表日): 2006年11月09日
要約:
【課題】粘度が1cp〜10cpの範囲の低粘度の塗布液であっても、10μm以下の薄い厚みの塗布層を形成可能なエクストルージョン型塗布装置を提供する。【解決手段】供給された塗布液を溜め、幅方向へ広げる半円状のマニホールドと、該マニホールドから塗布液が塗出される塗出スリットを備えたダイヘッドを用いて、粘度が1cp〜10cpの範囲の塗布液を基板に塗布する塗布装置において、前記塗出スリットの幅が60μm〜120μm、前記マニホールドの径が、12mm〜18mmの範囲としたことを特徴とするダイヘッドを備えた塗布装置とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
粘度が1cp〜10cpの範囲の塗布液を基板に塗布する塗布装置において、塗出スリットの幅を60μm〜120μm、マニホールドの径を12mm〜18mmの範囲とした、供給された前記塗布液を溜め、幅方向へ広げる半円状のマニホールドと、該マニホールドから塗布液が塗出される塗出スリットを備えたダイヘッドを備えたことを特徴とする塗布装置。
IPC (2件):
B05C 5/02 ,  B05D 1/26
FI (2件):
B05C5/02 ,  B05D1/26 Z
Fターム (14件):
4D075AC02 ,  4D075AC09 ,  4D075AC96 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041CA02 ,  4F041CA25
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (9件)
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