レーザー溶接方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西澤利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067816
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259873
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：

【要約】【課題】大出力レーザーによる溶接であっても、溶接欠陥の発生を抑え、小入熱で深溶込みを可能とし、高強度高靱性の溶接構造の形成を可能とする新しいレーザー溶接方法を提供する。【解決手段】ベース出力がピーク出力の50%以上になるように周期的に変動調節して溶接する。

請求項（抜粋）：

ベース出力がピーク出力の50%以上になるように周期的に変動調節して溶接することを特徴とするレーザー溶接方法。

IPC (2件)：

B23K 26/00 310 , B23K 26/00

FI (2件)：

B23K 26/00 310 A , B23K 26/00 N

Fターム (3件)：

4E068BA01 , 4E068CA02 , 4E068CA04

引用特許：

出願人引用 (7件)

全件表示

審査官引用 (3件)

前のページに戻る