有機EL素子およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲垣清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-362684
公開番号（公開出願番号）：特開2003-163075
出願日： 2001年11月28日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：

【要約】【課題】高精細かつ高輝度の有機EL素子構造およびその製造方法を提供する。【解決手段】 1層または複数層の有機薄膜層を陽極30および陰極50で挟持してなり、かつ回折格子を含む有機EL素子であって、各発光画素に配置された該回折格子の面積が発光画素の面積よりも大きいことを特徴とする。また、1層または複数層の有機薄膜層を陽極30および陰極50で挟持してなり、かつ回折格子を含む有機EL素子の製造方法において、基板内の回折格子の位置や大きさを決めるフォトマスクを感光性材料の表面でレーザー非干渉露光部分を形成しない位置に設置する工程と、二光束レーザー干渉露光系により前記感光性材料を露光する工程と、前記基板または前記基板上に形成された薄膜をエッチングすることにより回折格子とする工程と、を備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

1層または複数層の有機薄膜層を陽極および陰極で挟持してなり、かつ回折格子を含む有機EL素子において、各発光画素に配置された該回折格子の面積が発光画素の面積よりも大きいことを特徴とする有機EL素子。

IPC (3件)：

H05B 33/02 , H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (3件)：

H05B 33/02 , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

Fターム (5件)：

3K007AB03 , 3K007AB18 , 3K007BB06 , 3K007DB03 , 3K007FA00

引用特許：

審査官引用 (10件)

表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-092239 出願人：セイコーエプソン株式会社
EL装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-358613 出願人：セイコーエプソン株式会社
特開平3-138893

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