成膜方法、および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：後呂和男 , 村上二郎 , 水澤圭子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-186767
公開番号（公開出願番号）：特開2007-046155
出願日： 2006年07月06日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】大気中で良質の薄膜を形成することのできる成膜方法、および装置を提供することにある。【解決手段】本発明の成膜方法および装置によれば、原料となる金属化合物をキャリアガス中で超音波振動により霧化してエアロゾルを発生させ、さらにこのエアロゾルを加熱してから被処理材に吹き付けることにより、均一で品質の良い膜を得ることができる。また、このような方法および装置によれば、大気中で膜形成を行なうことができるから、成膜チャンバ等を設けることなく、開放空間中で成膜を行なうことができる。このため、製造設備のライン化が容易となり、製造効率を向上することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理材上に金属酸化物の薄膜を形成する方法であって、前記金属酸化物の原料となる金属を含む金属化合物を溶媒に溶解した原料液をキャリアガス中で超音波振動により霧化してエアロゾルを発生させる霧化工程と、前記エアロゾルを加熱する加熱工程と、前記被処理材を加熱しつつこの被処理材に前記エアロゾルを吹き付けて前記薄膜を形成する膜形成工程と、を経る成膜方法。

IPC (4件)：

C23C 16/44 , H01L 21/31 , H01G 4/10 , H01G 4/12

FI (4件)：

C23C16/44 A , H01L21/31 B , H01G4/10 , H01G4/12 400

Fターム (26件)：

4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030BA01 , 4K030BA18 , 4K030BA42 , 4K030CA02 , 4K030CA04 , 4K030CA05 , 4K030CA12 , 4K030EA03 , 4K030FA10 , 4K030JA09 , 4K030KA49 , 5E001AB06 , 5E001AE01 , 5E001AE03 , 5E001AH02 , 5E001AJ02 , 5E082FG03 , 5E082FG27 , 5F045AA04 , 5F045AB31 , 5F045AC07 , 5F045AE29 , 5F045BB08 , 5F045EE02

引用特許：

出願人引用 (1件)

シリコン膜の形成方法及びシリコン膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-270338 出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (6件)

気化装置及びCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-300118 出願人：松下電器産業株式会社
液体原料用CVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-100869 出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
薄膜製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-102312 出願人：株式会社村田製作所

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