特許
J-GLOBAL ID：200903069950168850

蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子

発明者：
多田 宏

多田 宏 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-187454
公開番号（公開出願番号）：特開2009-024208
出願日： 2007年07月18日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。【解決手段】真空槽12と、蒸着材料を収容して蒸発させる容器30と、基板保持手段16,18と、マスク保持手段28と、基板保持手段により保持された可撓性基板36とマスク保持手段により保持されたマスク40のそれぞれのアライメントマーク38,44の位置を測定する位置測定手段32a,32bと、位置測定手段による測定に基づき、基板保持手段により可撓性基板を延伸させてマスクとの位置合わせを行う位置制御手段34と、を有することを特徴とする蒸着装置10。可撓性基板を所定の方向に所定の量で延伸させてマスクとの位置合わせを行った後、マスクを介して蒸着材料を所定のパターンに蒸着させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空槽と、 前記真空槽内で蒸着材料を収容して蒸発させる容器と、 前記真空槽内でアライメントマークを有する可撓性基板を保持し、該可撓性基板にテンションを掛けることによって所定の方向に所定の量で延伸可能な基板保持手段と、 前記容器と前記可撓性基板との間で、アライメントマークを有するマスクを前記可撓性基板と対向するように保持するマスク保持手段と、 前記基板保持手段により保持された前記可撓性基板と前記マスク保持手段により保持された前記マスクのそれぞれのアライメントマークの位置を測定する位置測定手段と、 前記位置測定手段による測定に基づき、前記基板保持手段により前記可撓性基板を延伸させて前記マスクとの位置合わせを行う位置制御手段と、 を有することを特徴とする蒸着装置。
IPC (4件)：
C23C 14/54 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/24
FI (4件)：
C23C14/54 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/24 G
Fターム (21件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD16 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  3K107GG54 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA50 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DB06 ,  4K029DB18 ,  4K029HA01 ,  4K029HA04 ,  4K029JA01
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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