特許
J-GLOBAL ID:200903070194397490
基板の洗浄装置及び洗浄方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-222199
公開番号(公開出願番号):特開平11-151467
出願日: 1998年08月06日
公開日(公表日): 1999年06月08日
要約:
【要約】【課題】 ブラシを使用することなく基板の良好な洗浄を行うことができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】 基板洗浄装置は、隙間を介して左右方向に配置された洗浄室(4,6) と、被洗浄物である基板を把持して昇降することにより洗浄室の隙間内と洗浄室の外部との間で基板(10)を移動させるチャック(8) と、回転可能であると共に洗浄室の隙間内に基板が挿入された場合にその基板の両表面にそれぞれ近接するように配置されスクリュウ(12,14) と、このスクリュウに純水又は純水と薬液との混合液(17)を供給する液体供給ノズル(18,20) と、スクリュウに所定の粒径を有する雪氷(21)を供給する雪氷供給ノズル(22,24) と、を有し、スクリュウにより純水又は純粋と薬液との混合液及び雪氷を回転させて基板の両表面に押圧することにより、基板の両表面を洗浄する。
請求項(抜粋):
隙間を介して両側に配置された洗浄室と、被洗浄物である基板を把持し洗浄室の隙間内と洗浄室の外部との間で基板を移動させるチャック手段と、回転可能であると共に上記洗浄室の隙間内に基板が挿入された場合にその基板の両表面にそれぞれ近接するように配置されたスクリュウ手段と、このスクリュウ手段に純水又は純水と薬液との混合液を供給する液体供給手段と、上記スクリュウ手段に所定の粒径を有する雪氷を供給する雪氷供給手段と、を有し、上記スクリュウ手段により上記純水又は純水と薬液との混合液及び雪氷を回転させて上記基板の両表面に押圧することにより、基板の両表面を洗浄するようにしたことを特徴とする基板の洗浄装置。
IPC (5件):
B08B 3/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304
, H01L 21/304 647
FI (5件):
B08B 3/02 B
, H01L 21/304 622 Q
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 643 Z
, H01L 21/304 647 Z
引用特許:
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