特許
J-GLOBAL ID：200903070364541701

分析装置

発明者：
永田 武史

永田 武史 について

, 
大嶋 正裕

大嶋 正裕 について

, 
渡 正博

渡 正博 について

, 
高橋 重男

高橋 重男 について

, 
菅 章宏

菅 章宏 について

, 
村井 正仁

村井 正仁 について


出願人/特許権者：
横河電機株式会社

横河電機株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-116867
公開番号（公開出願番号）：特開2002-310907
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】【課題】 測定対象(プラスチック樹脂やプロセスガス等)に対して加熱したり、加圧した状態で測定可能であり、かつメンテナンス時にはプローブを取付けた状態でプローブ先端の洗浄が可能な分光分析装置を提供する。【解決手段】 貫通孔が形成された容器と、前記貫通孔内を所定の温度に加熱する手段と、前記貫通孔の途中に先端が対向して配置された一対のプローブと、前記貫通孔に連通するとともに前記プローブの先端を洗浄可能に形成された窓と、前記貫通孔を密閉空間とするための閉塞手段を設けた。また、密閉空間にガスを供給するガス供給手段を設け容器を覆う保温カバーを設けた。
請求項（抜粋）：
貫通孔が形成された容器と、前記貫通孔内を所定の温度に加熱する手段と、前記貫通孔の途中に先端が対向して配置された一対のプローブと、前記貫通孔に連通するとともに前記プローブの先端を洗浄可能に形成された窓と、前記貫通孔を密閉空間とするための閉塞手段を設けたことを特徴とする分析装置。
IPC (5件)：
G01N 21/35 ,  G01J 3/02 ,  G01J 3/42 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/15
FI (5件)：
G01N 21/35 Z ,  G01J 3/02 Z ,  G01J 3/42 U ,  G01N 21/01 C ,  G01N 21/15
Fターム (24件)：
2G020AA03 ,  2G020BA02 ,  2G020BA05 ,  2G020BA12 ,  2G020BA16 ,  2G020CA02 ,  2G020CB07 ,  2G057AA01 ,  2G057AB02 ,  2G057AB06 ,  2G057AC01 ,  2G057AC03 ,  2G057EA06 ,  2G057JA00 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB09 ,  2G059DD16 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059LL02
引用特許：
出願人引用 (11件)
全件表示
審査官引用 (15件)
全件表示
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM