特許
J-GLOBAL ID:200903070405001563

炭酸ストロンチウム微粉末

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-246032
公開番号(公開出願番号):特開2007-099614
出願日: 2006年09月11日
公開日(公表日): 2007年04月19日
要約:
【課題】微細な炭酸ストロンチウム微粉末を提供する。【解決手段】一次粒子の投影面積相当径の平均が5〜80nmの範囲にあり、その投影面積相当径の平均に対する変動係数が40%以内にある炭酸ストロンチウム微粉末。この炭酸ストロンチウム微粉末は、水酸化ストロンチウム濃度が1〜20質量%の水酸化ストロンチウムの水溶液もしくは懸濁液を攪拌しながら、該水溶液もしくは懸濁液に二酸化炭素ガスを、該水溶液もしくは懸濁液中の水酸化ストロンチウム1gに対して0.5〜200mL/分の範囲の流量にて導入することにより、水酸化ストロンチウムを炭酸化させて炭酸ストロンチウム粒子を得る工程、そして該炭酸ストロンチウム粒子を水性媒体中にて平均粒子径が10〜1000μmのセラミック製ビーズを用いて粉砕し、次いで乾燥する工程を含む製造方法により製造できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
一次粒子の投影面積相当径の平均が5〜80nmの範囲にあり、その投影面積相当径の平均に対する変動係数が40%以内にある炭酸ストロンチウム微粉末。
IPC (1件):
C01F 11/18
FI (1件):
C01F11/18 M
Fターム (11件):
4G076AA16 ,  4G076AB06 ,  4G076BA34 ,  4G076BA43 ,  4G076BA46 ,  4G076CA02 ,  4G076CA05 ,  4G076CA15 ,  4G076CA26 ,  4G076CA28 ,  4G076CA40
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (11件)
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