薄膜太陽電池等のパタ-ン状薄膜層のレ-ザパタ-ニング方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-011045
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208794
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】レーザ加工重複部の光電変換層の低抵抗化の問題,加工部周辺の盛り上がりの問題,レーザ加工による下地層や裏面層のダメージの問題などを解消し、高品質にして高効率の薄膜太陽電池等のパターン状薄膜層のレーザパターニング方法および装置を提供する。【解決手段】前記方法は、比較的幅狭でかつ細長い所定幅・所定長さの短冊状を有する1ショットのレーザパルス加工工程を含むこととする。上記方法を実施する装置は、レーザパルス発生源3と、複数台の発振器2と、ホモジナイザ5と、X-Yステージ6と、制御コンピュータ7とを備え、複数台のレーザ発振器から同時に出射したレーザ光線を前記ホモジナイザ5に導入してレーザ出力分布を所定幅・所定長さの短冊状に整形し、レーザ光線の出射タイミングを、前記X-Yステージに載置された加工対象物に応じて制御するようにしてなるものとする。

請求項（抜粋）：

電気絶縁性を有する基板の一方の面上に、金属電極層,光電変換層および透明電極層を順次重ねて形成し、かつ所定のパターンをレーザにより形成してなる薄膜太陽電池のレーザパターニング方法において、最上層の透明電極層のパターンは、比較的幅狭でかつ細長い所定幅・所定長さの短冊状を有する1ショットのレーザパルス加工により形成し、透明電極層の下層の光電変換層および金属電極層は、パルス重ね合わせ方式のレーザパルス加工あるいは前記1ショットのレーザパルス加工により形成することを特徴とする薄膜太陽電池のレーザパターニング方法

Fターム (8件)：

5F051AA05 , 5F051BA17 , 5F051CA15 , 5F051EA02 , 5F051EA09 , 5F051EA10 , 5F051EA11 , 5F051EA16

引用特許：

審査官引用 (8件)

光起電力装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-103878 出願人：三洋電機株式会社
特開昭63-003470
光電変換装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-037207 出願人：株式会社富士電機総合研究所

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