特許

J-GLOBAL ID：200903070536071206

レーザー光周回装置及びレーザー光周回方法

発明者： 野瀬 裕之 ,  石田 大典 ,  金子 七三雄 ,  栄 久晴 ,  ▲桑▼原 一 ,  山本 智彦 ,  ▲えび▼名 風太郎 ,  上坂 充 ,  土橋 克広
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社 ,  国立大学法人 東京大学 ,  独立行政法人放射線医学総合研究所
代理人 (3件)： 堀田 実 ,  仲宗根 康晴 ,  野村 俊博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-168252
公開番号（公開出願番号）：特開2006-344731
出願日： 2005年06月08日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：

【課題】 レーザー光を所定の光路内に閉じ込めて周回させ同一のレーザー光を同一のレーザー光集光点に複数回集光させることができ、かつレーザー光集光点の位置を容易かつ正確に微調整することができ、これによりレーザー光の利用効率を大幅に高めることができるレーザー光周回装置及びレーザー光周回方法を提供する。【解決手段】 レーザー光3を外部から導入し、レーザー光を周回する周回路5内に閉じ込めて、周回路内のレーザー光集光点9を繰り返し通過させ、かつレーザー光集光点の位置を調整し、同一のレーザー光を同一のレーザー光集光点に複数回集光させる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

レーザー光を外部から導入し、該レーザー光を周回する周回路内に閉じ込めて、該周回路内のレーザー光集光点を繰り返し通過させるレーザー光周回光学系と、 前記レーザー光集光点の位置を調整するレーザー光集光点調整装置とを備え、これにより同一のレーザー光を同一のレーザー光集光点に複数回集光させる、ことを特徴とするレーザー光周回装置。

IPC (1件)：

H01S 3/00

FI (1件)：

H01S3/00 Z

Fターム (11件)：

5F172AD06 ,  5F172AD07 ,  5F172AE03 ,  5F172AF02 ,  5F172NN28 ,  5F172NN29 ,  5F172NN32 ,  5F172NR02 ,  5F172NR22 ,  5F172ZA04 ,  5F172ZZ14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• X線発生装置及び発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-079820   出願人：住友重機械工業株式会社
• 特許第3201585号公報、「短パルス電子ビームの加速及び圧縮の方法とその装置」
  

審査官引用 (7件)

• レーザ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-321703   出願人：東芝メディカルエンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
• レーザ逆コンプトン光生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-163780   出願人：株式会社東芝
• 光短波長化装置及び光短波長化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-134806   出願人：工業技術院長, ソニー株式会社, 大垣英明
• 超高輝度放射光発生方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-345924   出願人：財団法人レーザー技術総合研究所
• X線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-316442   出願人：東京電子株式会社, 鈴木康夫
• レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系及びそれを用いたX線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-092471   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• パルス幅伸長光学系および該光学系を備えた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-049777   出願人：株式会社ニコン

引用文献：

審査官引用 (4件)

• Laser circulation system for compact monochromatic hard X-ray source
• X-BAND RF GUN/LINAC FOR INVERSE COMPTON SCATTERINGHARD X-RAY SOURCE
• Two-colored Laser Circulation System for Monochromatic Tunable Hard X-ray Source
• X-band RF gun and linac for medical Compton scattering X-ray source