特許
J-GLOBAL ID：200903070552649625

感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品

発明者：
布村 昌隆

布村 昌隆 について

, 
大江 匡之

大江 匡之 について


出願人/特許権者：
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社

日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211664
公開番号（公開出願番号）：特開2003-140340
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】感度及び解像度が高く、良好な形状のパターンが得られる現像時間の短いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物、これを用いたレリーフパターンの製造法、信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】(a)アルカリ水溶液可溶性のポリイミド酸エステル又はポリイミド、(b)光により酸を発生する化合物及び(c)フェノール性水酸基を有する化合物を含有してなる感光性重合体組成物及び前記(a)成分が、一般式(I)(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示し、2つのR3は各々独立に1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステルである感光性重合体組成物。また、該感光性重合体組成物を支持基板上に程を含むレリーフパターンの製造法及び前記製造法で得られるレリーフパターンを表面保護膜又は層間絶縁膜として有してなる電子部品。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ水溶液可溶性のポリアミド酸エステル又はポリイミド、(b)光により酸を発生する化合物及び(c)フェノール性水酸基を有する化合物を含有してなる感光性重合体組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/037 501 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312
FI (6件)：
G03F 7/037 501 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (62件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE01 ,  2H025CB25 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J043PA19 ,  4J043QB15 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043RA05 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA47 ,  4J043SA62 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043TA22 ,  4J043TA32 ,  4J043TA43 ,  4J043TA46 ,  4J043TA71 ,  4J043TB01 ,  4J043UA032 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA252 ,  4J043UA261 ,  4J043UA262 ,  4J043UA362 ,  4J043UB011 ,  4J043UB031 ,  4J043UB032 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043UB152 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043UB401 ,  4J043UB402 ,  4J043VA011 ,  4J043ZA51 ,  4J043ZB22 ,  4J043ZB50 ,  5F058AA10 ,  5F058AC02 ,  5F058AC07 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03
引用特許：
出願人引用 (11件)
全件表示
審査官引用 (23件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM