回折格子作製方法及び回折格子

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-248646
公開番号（公開出願番号）：特開2000-075117
出願日： 1998年09月02日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】界面を減少ないし排除してノイズ光の発生を効果的に抑制することができ、高い回折効率を有する回折格子を作製する。【解決手段】単一の基板を用いて回折格子を作製する方法であって、感光体層と所定パターンの光透過減衰膜とを前記基板に一体化形成するステップと、露光照射光により、光透過減衰膜を介して、感光体層を露光するステップと、露光後の感光体層を現像するステップ、とを含む。露光方向と現像方向とが逆になるように構成する。所定基板の上に所定ピッチで並列に形成され、各回折格子の断面における根元部分が括れている回折格子を作製できる。

請求項（抜粋）：

単一の基板を用いて回折格子を作製する方法であって、感光体層と所定パターンの光透過減衰膜とを前記基板に一体化形成するステップと、露光照射光により、光透過減衰膜を介して、感光体層を露光するステップと、露光後の感光体層を現像するステップ、とを含むことを特徴とする方法。

Fターム (6件)：

2H049AA03 , 2H049AA07 , 2H049AA13 , 2H049AA33 , 2H049AA48 , 2H049AA64

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭54-121150
回折格子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-360942 出願人：キヤノン株式会社
分布帰還形半導体レーザ
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-066960 出願人：アルプス電気株式会社

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