特許
J-GLOBAL ID：200903071001080792
フォトリソグラフィ-法を利用した圧電/電歪セラミックマイクロアクチュエ-タの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-200551
公開番号（公開出願番号）：特開2000-196163
出願日： 1999年07月14日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】【課題】 微細パターンの高い高さ/幅の比を達成することができ、下部構造との結合が改善されるとともに、圧電/電歪膜をモールドの内部に位置させることで外部からのひっかかり等によって圧電/電歪膜が損傷することを防止する。【解決手段】振動板を提供する段階と、振動板上にフォトレジストを塗布して露光した後、現像して微細パターンのモールドを形成する段階と、粒子の大きさが5μm以下であり、鉛、チタンを基本構成元素とするセラミック酸化物粉末と前記セラミック酸化物粉末と同一又は類似成分のセラミックゾル溶液とを混合してセラミックペーストを製造する段階と、セラミックペーストをモールド内部に充填して圧電/電歪膜を成形する段階と、100〜300°Cで熱処理することでモールド内部に成形された圧電/電歪膜を焼成する段階と、圧電/電歪膜上に上部電極を形成する段階とを有する。
請求項（抜粋）：
金属からなる振動板を提供する段階と、前記金属振動板上にフォトレジストを塗布した後、パターニングして微細パターンのモールドを形成する段階と、100〜500°Cの低温で非爆発性酸化-還元燃焼反応によって製造されて、粒子の大きさが5μm以下であり、鉛、チタンを基本構成元素とするセラミック酸化物粉末と、水又は有機溶媒をベースにして製造された前記セラミック酸化物粉末と同一又は類似成分のセラミックゾル溶液とを混合してセラミックペーストを製造する段階と、前記セラミックペーストを前記モールドの内部に充填して圧電/電歪膜を成形する段階と、100〜300°Cで熱処理することで前記モールド内部に成形された圧電/電歪膜を焼成する段階と、圧電/電歪膜上に上部電極を形成する段階とを備えたフォトリソグラフィー法を利用した圧電/電歪セラミックマイクロアクチュエータの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 41/24
, C04B 35/495
, H01L 41/22
H01L 41/22 A
, C04B 35/00 J
, H01L 41/22 Z
