特許
J-GLOBAL ID:200903071035391746

多孔質膜の形成方法及びその方法によって形成された多孔質膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本田 ▲龍▼雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-064363
公開番号(公開出願番号):特開2004-273874
出願日: 2003年03月11日
公開日(公表日): 2004年09月30日
要約:
【課題】多孔質膜の空孔を形成するための孔源材料として、抽出溶媒である超臨界流体との相溶性の優劣にかかわらず、種々のものを使用することができ、引いては空孔サイズや骨格構造の選択自由度の大きい多孔質膜の形成方法を提供する。【解決手段】本発明による多孔質膜の形成方法は、骨格材料と孔源材料とが混合状態で含まれる一次膜を形成する一次膜形成工程と、前記一次膜を構成する孔源材料を分解する分解工程と、前記分解工程によって分解された孔源材料を超臨界流体を用いて抽出する抽出工程とを有する。前記分解工程において、孔源材料の分解を促進する分解促進成分を含有した超臨界流体を用いて前記孔源材料を分解することができる。かかる超臨界流体を用いる場合、孔源材料の分解と抽出とを一つの工程(分解・抽出工程)にて同時に行うことができる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
多孔質膜の骨格を形成する骨格材料と多孔質膜の空孔の基となる孔源材料とが混合状態で含まれる一次膜を形成する一次膜形成工程と、前記一次膜を構成する孔源材料を分解する分解工程と、前記分解工程によって分解された孔源材料を超臨界流体を用いて抽出する抽出工程とを有することを特徴とする多孔質膜の形成方法。
IPC (2件):
H01L21/316 ,  H01L21/768
FI (3件):
H01L21/316 B ,  H01L21/316 P ,  H01L21/90 P
Fターム (8件):
5F033RR04 ,  5F033RR29 ,  5F033SS22 ,  5F033XX24 ,  5F058BC02 ,  5F058BC03 ,  5F058BF46 ,  5F058BH20
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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