特許
J-GLOBAL ID：200903012381889533

UV照射による高密度及び多孔質有機ケイ酸塩材料の機械的強化

発明者：
アーロン スコット ルーカス

アーロン スコット ルーカス について

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マーク レオナルド オニール

マーク レオナルド オニール について

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ジーン ルイス ビンセント

ジーン ルイス ビンセント について

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レイモンド ニコラス バーティス

レイモンド ニコラス バーティス について

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マーク ダニエル ビトナー

マーク ダニエル ビトナー について

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ユージン ジョゼフ カーワッキ,ジュニア

ユージン ジョゼフ カーワッキ,ジュニア について


出願人/特許権者：
エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド

エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド について


代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-059560
公開番号（公開出願番号）：特開2004-274052
出願日： 2004年03月03日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】 十分な機械的強度を有する改善された誘電体材料、及びそれを作製するための方法を提供すること。【解決手段】 構造形成剤前駆体を含んで成る少なくとも1つの化学反応体を化学気相成長させることによって、基材の少なくとも一部の上に有機ケイ酸塩膜を堆積させ、第1材料硬度及び第1弾性率を有する該有機ケイ酸塩膜を提供すること、並びに 該有機ケイ酸塩膜を非酸化性雰囲気中で紫外線源にさらして、第2材料硬度及び第2弾性率を有する有機ケイ酸塩膜を提供することを含んで成り、該第2材料硬度及び該第2弾性率が、該第1材料硬度及び該第1弾性率よりも少なくとも10%高い、有機ケイ酸塩膜の材料硬度及び弾性率を改善するための方法により、材料硬度及び弾性率を改善した誘電体材料を得る。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
構造形成剤前駆体を含んで成る少なくとも1つの化学反応体を化学気相成長させることによって、基材の少なくとも一部の上に有機ケイ酸塩膜を堆積させ、第1材料硬度及び第1弾性率を有する該有機ケイ酸塩膜を提供すること、並びに 該有機ケイ酸塩膜を非酸化性雰囲気中で紫外線源にさらして、第2材料硬度及び第2弾性率を有する有機ケイ酸塩膜を提供することを含んで成り、該第2材料硬度及び該第2弾性率が、該第1材料硬度及び該第1弾性率よりも少なくとも10%高い、有機ケイ酸塩膜の材料硬度及び弾性率を改善するための方法。
IPC (2件)：
H01L21/312 ,  H01L21/768
FI (3件)：
H01L21/312 C ,  H01L21/90 S ,  H01L21/90 P
Fターム (39件)：
5F033GG01 ,  5F033GG02 ,  5F033HH19 ,  5F033HH21 ,  5F033HH27 ,  5F033HH30 ,  5F033HH32 ,  5F033HH33 ,  5F033HH34 ,  5F033HH36 ,  5F033QQ54 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR01 ,  5F033RR06 ,  5F033RR11 ,  5F033RR21 ,  5F033RR23 ,  5F033RR24 ,  5F033RR29 ,  5F033SS01 ,  5F033SS03 ,  5F033SS11 ,  5F033SS15 ,  5F033TT03 ,  5F033TT04 ,  5F033WW00 ,  5F033WW01 ,  5F033WW03 ,  5F033WW04 ,  5F033WW05 ,  5F033WW09 ,  5F033XX17 ,  5F033XX24 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AF01 ,  5F058AG09 ,  5F058AH02
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 米国特許第4,603,168号明細書
  • 米国特許第6,284,500号明細書
  • 米国特許出願第2003/054115号明細書
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審査官引用 (13件)
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