微細構造乾燥処理方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-348640
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116758
出願日： 2003年10月07日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：

【課題】本発明の目的は、搬送中の乾燥を防止し、更に、表面に微細なパターンを形成した大口径基板に対してパターン倒れがなく、短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、リンス液に浸漬又は濡れた状態の微細構造を有する被乾燥物を高圧容器内に搬送する搬送工程と、前記被乾燥物上より前記リンス液の大部分を排出させるリンス液排出工程と、前記高圧容器内に常温及び常圧では気体で高圧下では液体となる流体を液体又は超臨界状態で設定圧力まで導入する工程と、前記流体の設定圧力を保ったまま前記流体の温度を臨界温度以上に昇温させる工程と、前記臨界温度状態を保ったまま前記流体を排出する工程とを順次有することを特徴とする微細構造乾燥処理方法にある。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

微細構造を有するその表面がリンス液によって覆われた被乾燥物を高圧容器内に搬送する搬送工程と、前記被乾燥物より前記リンス液の大部分を排出させるリンス液排出工程と、前記高圧容器内に常温及び常圧では気体で高圧下では液体となる流体を液体又は超臨界状態で設定圧力まで導入する工程と、前記流体の設定圧力を保ったまま前記流体の温度を臨界温度以上に昇温させる工程と、前記臨界温度状態を保ったまま前記流体を排出する工程とを順次有することを特徴とする微細構造乾燥処理方法。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (1件)：

H01L21/304 651L

引用特許：

出願人引用 (7件)

超臨界乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-305154 出願人：日立工機株式会社, 日本電信電話株式会社, 株式会社日立サイエンスシステムズ
表面処理方法および装置ならびにこれにより得られた素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-296776 出願人：株式会社日立製作所
レジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-146874 出願人：株式会社ソルテック

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審査官引用 (6件)

超臨界乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-305154 出願人：日立工機株式会社, 日本電信電話株式会社, 株式会社日立サイエンスシステムズ
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-074484 出願人：株式会社荏原製作所
高圧処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-283003 出願人：大日本スクリーン製造株式会社, 株式会社神戸製鋼所

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