枚葉式の処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-341850
公開番号（公開出願番号）：特開2004-165640
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】載置台における温度分布の面内均一性を高く保持して処理の面内均一性を向上させることが可能な枚葉式の処理装置を提供する。【解決手段】処理容器36内に設けられた薄板状の載置台58にリフトピン70を昇降させることによって被処理体Wを載置し、前記載置台をその下方に配置した加熱ランプ108により加熱することにより前記被処理体を間接的に加熱して所定の処理を施すようにした枚葉式の処理装置において、前記被処理体の周辺のエッジ部を支持できるように前記リフトピンを配置すると共に、前記載置台には前記エッジ部に対応する部分に前記昇降するリフトピンを通すためのピン挿通部60が形成される。これにより、ピン挿通部を通過する加熱ランプからの照射光が載置台の加熱温度の分布特性に与える悪影響を大幅に抑制する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理容器内に設けられた薄板状の載置台にリフトピンを昇降させることによって被処理体を載置し、前記載置台をその下方に配置した加熱ランプにより加熱することにより前記被処理体を間接的に加熱して所定の処理を施すようにした枚葉式の処理装置において、前記被処理体の周辺のエッジ部を支持できるように前記リフトピンを配置すると共に、前記載置台には前記エッジ部に対応する部分に前記昇降するリフトピンを通すためのピン挿通部が形成されていることを特徴とする枚葉式の処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/68

FI (1件)：

H01L21/68 N

Fターム (26件)：

4K030CA04 , 4K030CA06 , 4K030CA12 , 4K030FA10 , 4K030GA02 , 4K030JA10 , 4K030KA04 , 4K030KA23 , 4K030KA39 , 4K030LA15 , 5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031HA24 , 5F031HA27 , 5F031HA28 , 5F031HA30 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031JA46 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA30 , 5F031MA32 , 5F031PA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-326129 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (8件)

成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-063202 出願人：東京エレクトロン株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-398507 出願人：東京エレクトロン株式会社
枚葉式の処理装置及び処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-074853 出願人：東京エレクトロン株式会社

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