特許
J-GLOBAL ID：200903071529615710
面発光レーザ、該面発光レーザにおける二次元フォトニック結晶の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-217002
公開番号（公開出願番号）：特開2007-073945
出願日： 2006年08月09日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】従来の単一モード光と比較してスポット径の大きなレーザ光を得ることができ、モード制御が容易となる面発光レーザ、該面発光レーザにおける二次元フォトニック結晶の製造方法を提供する。【解決手段】活性層と、屈折率の異なる媒質が二次元周期で配列された二次元フォトニック結晶とを有する面発光レーザが、つぎのような構成を有する。すなわち、前記二次元フォトニック結晶が、二次元周期構造を有する第1の層と、第2の層とを備え、前記第1の層と第2の層とを接するように配置し、前記二次元フォトニック結晶の屈折率周期を乱す部位が前記第2の層に形成された構成を有している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
活性層と、屈折率の異なる媒質が二次元周期で配列された二次元フォトニック結晶とを有する面発光レーザにおいて、
前記二次元フォトニック結晶が、二次元周期構造を有する第1の層と、第2の層とを備え、前記第1の層と第2の層とを接するように配置し、前記二次元フォトニック結晶の屈折率周期を乱す部位が前記第2の層に形成されていることを特徴とする面発光レーザ。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
5F173AC03
, 5F173AC13
, 5F173AC52
, 5F173AC70
, 5F173AG12
, 5F173AH22
, 5F173AH44
, 5F173AP05
, 5F173AP09
, 5F173AP33
, 5F173AP37
, 5F173AP73
, 5F173AP76
, 5F173AQ02
, 5F173AQ03
, 5F173AR14
, 5F173AR33
, 5F173AR56
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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