特許
J-GLOBAL ID：200903072127294026

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
奥谷 洋介

奥谷 洋介 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-058256
公開番号（公開出願番号）：特開2007-235065
出願日： 2006年03月03日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】蒸気による基板処理および処理液による基板処理を同一処理チャンバ(処理ユニット)内で行うことができるようにする。【解決手段】処理ユニット11は、基板Wを保持して回転させるスピンチャック21と、基板対向面36を基板Wの表面に接近させることによって基板W表面付近の空間を制限するとともに、複数の蒸気吹き出し孔37を有する遮断板30と、この遮断板30を上下動させる遮断板昇降駆動機構31と、遮断板30に蒸気を供給する蒸気供給源40と、基板Wに処理液を供給する処理液ノズル75および処理液供給管35とを備えている。遮断板30を下降させると、遮断板30と処理容器69とによって、基板Wを取り囲む実質的な密閉空間が形成される。処理容器69内の雰囲気は、排気管62などによって排気される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板を保持して回転させる基板保持回転機構と、 この基板保持回転機構に保持された基板の表面に対向するとともに、複数の蒸気吹き出し孔が形成された基板対向面を有する遮断部材と、 この遮断部材を前記基板保持回転機構に保持された基板に対して、相対的に接近/離反させる遮断部材位置変更機構と、 前記遮断部材に対して蒸気を供給し、前記蒸気吹き出し孔から吹き出させる蒸気供給機構と、 前記基板保持回転機構に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液ノズルと、 前記遮断部材が前記基板保持回転機構による基板保持位置の近傍の所定の処理位置にあるときに、この遮断部材とともに当該基板を取り囲む実質的な閉空間を形成する包囲部材と、 この包囲部材によって囲まれた空間を排気する排気手段とを含む、基板処理装置。
IPC (9件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/306 ,  G02F 1/133 ,  G11B 7/26 ,  G11B 5/84
FI (12件)：
H01L21/30 572B ,  H01L21/304 645B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647A ,  B08B3/02 D ,  B08B3/02 B ,  B08B3/08 Z ,  B08B3/10 Z ,  H01L21/306 R ,  G02F1/1333 500 ,  G11B7/26 501 ,  G11B5/84 Z
Fターム (39件)：
2H090JB02 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  2H090LA01 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB42 ,  3B201BB44 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD11 ,  3B201CD31 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112GA00 ,  5D112GA08 ,  5D112GA27 ,  5D121BA01 ,  5D121BB34 ,  5D121BB38 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28 ,  5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE10 ,  5F043EE37 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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