膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-150984
公開番号（公開出願番号）：特開2000-336314
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【目的】層間絶縁膜材料として、適当な均一な厚さを有する塗膜が形成可能な、誘電率、吸水率特性などに優れた膜形成用組成物を得る。【構成】 (A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物 R1 a Si(OR2 )4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子、1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および(A-2)下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3,R4,R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-を示し、dは0または1を示し、nは1〜6の整数を示す。)から選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方ならびに(B)フッ素系界面活性剤を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子、1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および(A-2)下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3,R4,R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-を示し、dは0または1を示し、nは1〜6の整数を示す。)から選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方ならびに(B)フッ素系界面活性剤を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (4件)：

C09D183/06 , C09D183/14 , H01L 21/312 , H01L 21/316

FI (4件)：

C09D183/06 , C09D183/14 , H01L 21/312 C , H01L 21/316 G

Fターム (14件)：

4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038GA12 , 4J038JC32 , 4J038KA09 , 4J038PB09 , 5F058AA03 , 5F058AA04 , 5F058AC03 , 5F058AC06 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH01 , 5F058AH02

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭55-164255
特開昭63-168470
被膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-169261 出願人：東レ株式会社

全件表示

前のページに戻る