特許
J-GLOBAL ID：200903099772973456

フルオロアルキル基含有ポリシロキサン、低誘電率樹脂組成物及び物品

発明者：
成田 武憲

成田 武憲 について

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森嶋 浩之

森嶋 浩之 について

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横塚 俊亮

横塚 俊亮 について

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松倉 郁生

松倉 郁生 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について

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旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-024398
公開番号（公開出願番号）：特開平11-217440
出願日： 1998年02月05日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】機械的強度及び耐熱性が優れる複合膜を形成しうる低誘電率樹脂組成物を提供する。【解決手段】テトラアルコキシシランとフルオロアルキル基を有するアルコキシシランとの共加水分解縮重合により得られ、平均組成におけるシリコン原子(Si)とフッ素原子(F)の数の比が、3≦Fの数/Siの数≦5を満足し、特定の一般式で示されるフルオロアルキキル基の個数がフルオロアルキル基全体の個数に対して5%以上含まれ、特定の一般式表されるアルコキシシランが用いられるアルコキシシランの総量に対して60モル%以上であるフルオロアルキル基含有ポリシロキサン、官能基を分子内に有するフッ素樹脂(a)及び前記フルオロアルキル基含有ポリシロキサン(b)を含有してなる低誘電率樹脂組成物並びにこの組成物により形成された塗膜を有する物品。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】(ただし、式中、R1は炭素数1〜4の1価の炭化水素基を示す)で表されるテトラアルコキシシランと一般式(2)【化2】(ただし、式中、Rf1、Rf2及びRf3はそれぞれ1価のフルオロアルキル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよく、x、y及びzはそれぞれ0又は1であり、1≦x+y+z≦3を満足し、R2は炭素数1〜4の1価の炭化水素基を示す)で表されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシランとの共加水分解縮重合により得られ、平均組成におけるシリコン原子(Si)とフッ素原子(F)の数の比が式【数1】を満足し、一般式(3)【化3】(ただし、式中、nは8以上の整数、R3は炭素数1〜6の2価の炭化水素基を示す)で示されるフルオロアルキル基の個数がフルオロアルキル基全体の個数に対して5%以上含まれ、一般式(1)で表されるアルコキシシランが用いられるアルコキシシランの総量に対して60モル%以上であるフルオロアルキル基含有ポリシロキサン。
IPC (10件)：
C08G 77/24 ,  C08K 5/54 ,  C08L 27/12 ,  C08L 83/08 ,  C09D127/12 ,  C09D183/08 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31
FI (9件)：
C08G 77/24 ,  C08K 5/54 ,  C08L 27/12 ,  C08L 83/08 ,  C09D127/12 ,  C09D183/08 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/90 S ,  H01L 23/30 R
引用特許：
審査官引用 (28件)
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