基板の処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：金本哲男 , 亀谷美明 , 萩原康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-057202
公開番号（公開出願番号）：特開2004-266212
出願日： 2003年03月04日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】洗浄によりウェハに付着した水分を完全に除去し,当該基板を水分を除去した状態で成膜装置に搬送する。【解決手段】洗浄装置3に隣接して水分除去装置4を設ける。水分除去装置4では,ウェハWに高温ガスを供給してウェハWに付着した水分を完全に除去する。水分除去装置4と成膜装置5,6との間の搬送部7は,ケーシング21で覆う。ケーシング21内には,乾燥気体を供給し,搬送部7内を乾燥雰囲気にする。水分除去装置4で水分の除去されたウェハWを乾燥雰囲気内を通して成膜装置5,6に搬送する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の処理システムであって, 洗浄液を用いて基板を洗浄する洗浄装置と, 前記洗浄装置で洗浄された基板に付着した水分を除去する水分除去装置と, 前記水分除去装置で水分の除去された基板を乾燥雰囲気内を通して基板の他の処理装置に搬送するための搬送部と,を備えたことを特徴とする,基板の処理システム。

IPC (3件)：

H01L21/304 , H01L21/31 , H01L21/68

FI (8件)：

H01L21/304 651A , H01L21/304 643A , H01L21/304 651G , H01L21/304 651K , H01L21/304 651L , H01L21/304 651M , H01L21/31 C , H01L21/68 A

Fターム (30件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031GA02 , 5F031GA43 , 5F031GA45 , 5F031MA06 , 5F031MA09 , 5F031MA23 , 5F031NA04 , 5F031NA09 , 5F031NA11 , 5F031PA23 , 5F031PA30 , 5F045AA06 , 5F045AA08 , 5F045AB03 , 5F045AB32 , 5F045AF03 , 5F045AF08 , 5F045BB01 , 5F045BB08 , 5F045BB16 , 5F045EE14 , 5F045EF08 , 5F045EM07 , 5F045EM10 , 5F045HA01 , 5F045HA24

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平4-014222
特開平4-014222
特開平4-014222

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