特許
J-GLOBAL ID：200903072651170989
薄膜処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-066112
公開番号（公開出願番号）：特開2008-223110
出願日： 2007年03月15日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】ワーク自公転方式の優れた特徴を活かし、高均一膜と高生産性を同時に達成することが可能な薄膜処理装置を提供すること。【解決手段】ワークを自公転させる歯車機構を1つの搬送できるモジュールとすることにより、モジュールをロードロック室からスパッタ室へ搬送する機構及び、スパッタ室にてモジュール内の固定ステージを固定する外串と、回転ステージに回転駆動を伝達する回転部を設置することにより、ワークを高速自公転することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
スパッタ室と、ターゲットを保持するカソードと、前記カソードに接続された電源と、前記スパッタ室と隣接しかつ気密的に仕切るバルブ機構を介して設けられたロードロック室と、前記スパッタ室内に配置されかつ複数のワークを保持可能な機構を有すると共に着脱可能なモジュールと、前記モジュールを前記スパッタ室とロードロック室との間で搬送する搬送機構とで構成される薄膜処理装置であって、
前記モジュールは前記カソードと対向して配置されかつ複数のワークをそれぞれ自公転させる回転ギヤ機構を具備し、前記スパッタ室は前記モジュールを保持する保持機構を有すると共に前記ワークを自公転させる回転駆動を伝達可能な回転機構を具備すること
を特徴とする薄膜処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C14/34 J
, C23C14/50 H
4K029AA24
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029DC34
, 4K029DC35
, 4K029JA01
, 4K029JA03
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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