特許
J-GLOBAL ID:200903072956966562

表面処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-220355
公開番号(公開出願番号):特開2002-035574
出願日: 2000年07月21日
公開日(公表日): 2002年02月05日
要約:
【要約】【目的】 ジェット処理(リモート処理)にあたって、効率を向上させることを目的とする。【構成】 ジェット処理を行うにあたり、反応ガスを予め加湿する。あるいは電界を生じさせるためにパルス状の交流電源を用いる。さらに反応ガスの流速を一定速度以上にする。また表面処理を行う際の目的に応じて、様々なガスを反応ガスとして空気に添加して用いる。
請求項(抜粋):
大気圧近傍下で放電を生ぜしめている電界中に反応ガスを通過させ、被処理物に対して前記ガスを吐出させる表面処理方法において、前記電界中を通過させる反応ガスに対して、前記電界中を通過させる前に加湿する事を特徴とする表面処理方法。
IPC (6件):
B01J 19/08 ,  C08J 7/00 CER ,  C08J 7/00 CEZ ,  C08J 7/00 303 ,  C23C 26/00 ,  C08L101:00
FI (6件):
B01J 19/08 Z ,  C08J 7/00 CER Z ,  C08J 7/00 CEZ Z ,  C08J 7/00 303 ,  C23C 26/00 D ,  C08L101:00
Fターム (31件):
4F073AA01 ,  4F073AA02 ,  4F073CA22 ,  4F073CA24 ,  4F073CA30 ,  4F073CA62 ,  4F073CA63 ,  4F073CA64 ,  4F073CA65 ,  4F073CA68 ,  4F073CA69 ,  4F073CA70 ,  4F073CA71 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075CA15 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K044BA12 ,  4K044BA18 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BC03 ,  4K044CA34 ,  4K044CA36
引用特許:
審査官引用 (8件)
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