特許
J-GLOBAL ID：200903073173921325
軟磁性膜とこの軟磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッド、ならびに前記軟磁性膜の製造方法と前記薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-005914
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045719
出願日： 2002年01月15日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：
【要約】【課題】 FeCo合金にPdやRhなどの貴金属の元素を添加することにより、飽和磁束密度Bsを2.0T以上にできると同時に耐食性にも優れた軟磁性膜とこの軟磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッド、ならびに前記軟磁性膜の製造方法と薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的としている。【解決手段】 下部磁極層19及び/または上部磁極層21を、Feの組成比X(質量%)/Coの組成比Y(質量%)の比率が2以上で5以下であり、元素α(ただし元素αは、Pdなど)の組成比Zが、0.5質量%以上で18質量%以下であり、X+Y+Z=100質量%の関係を満たすFeXCoYαZ合金で形成する。これにより飽和磁束密度を2.0以上にでき高記録密度化に対応できるとともに耐食性に優れた薄膜磁気ヘッドを製造することができる。
請求項（抜粋）：
組成式がFeXCoYαZ(ただし元素αは、Pd、Pt、Ru、Irのいずれか一種または二種以上)で示され、Feの組成比X(質量%)/Coの組成比Y(質量%)の比率は、2以上で5以下で、元素αの組成比Zは、0.5質量%以上で18質量%以下であり、X+Y+Z=100質量%の関係を満し、且つメッキ形成されることを特徴とする軟磁性膜。
IPC (3件)：
H01F 10/16
, G11B 5/31
, H01F 10/30
H01F 10/16
, G11B 5/31 C
, G11B 5/31 D
, H01F 10/30
5D033BA03
, 5D033BA08
, 5D033CA01
, 5D033CA06
, 5D033DA04
, 5D033DA31
, 5E049AA04
, 5E049BA12
, 5E049DB18
