特許
J-GLOBAL ID:200903073289545576

純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-330087
公開番号(公開出願番号):特開2001-145879
出願日: 1999年11月19日
公開日(公表日): 2001年05月29日
要約:
【要約】【課題】発電所、医薬品製造所、半導体製造工場など、高純度の水質が要求される純水を必要とする分野で、シリカ及びホウ素を極低濃度まで低減させ、安定して純水を製造することができる純水製造装置を提供する。【解決手段】(A)前処理された原水を通水する第1の逆浸透膜装置、(B)第1の逆浸透膜装置の透過水に、第2の逆浸透膜装置の透過水のpHが9.2以上になるようにアルカリを添加するアルカリ添加装置、(C)アルカリが添加された第1の逆浸透膜装置の透過水を通水する第2の逆浸透膜装置、(D)第2の逆浸透膜装置の透過水を通水する第1のアニオン交換樹脂塔、(E)第1のアニオン交換樹脂塔の流出水を通水するカチオン交換樹脂塔及び(F)カチオン交換樹脂塔の流出水を通水する非再生型の第2のアニオン交換樹脂塔を有することを特徴とする純水製造装置。
請求項(抜粋):
(A)前処理された原水を通水する第1の逆浸透膜装置、(B)第1の逆浸透膜装置の透過水に、第2の逆浸透膜装置の透過水のpHが9.2以上になるようにアルカリを添加するアルカリ添加装置、(C)アルカリが添加された第1の逆浸透膜装置の透過水を通水する第2の逆浸透膜装置、(D)第2の逆浸透膜装置の透過水を通水する第1のアニオン交換樹脂塔、(E)第1のアニオン交換樹脂塔の流出水を通水するカチオン交換樹脂塔及び(F)カチオン交換樹脂塔の流出水を通水する非再生型の第2のアニオン交換樹脂塔を有することを特徴とする純水製造装置。
IPC (7件):
C02F 1/44 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/58 ,  B01J 39/04 ,  B01J 41/04 ,  B01J 49/00 ,  C02F 1/42
FI (7件):
C02F 1/44 H ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/58 ,  B01J 39/04 G ,  B01J 41/04 G ,  B01J 49/00 Z ,  C02F 1/42 A
Fターム (43件):
4D006GA03 ,  4D006KA02 ,  4D006KA03 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KA71 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006KD19 ,  4D006KE02P ,  4D006KE03P ,  4D006KE13P ,  4D006KE15R ,  4D006KE19P ,  4D006MB12 ,  4D006MC54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB06 ,  4D006PB23 ,  4D006PB70 ,  4D006PC02 ,  4D006PC31 ,  4D006PC42 ,  4D025AA04 ,  4D025AB17 ,  4D025AB33 ,  4D025BA09 ,  4D025BA10 ,  4D025BA14 ,  4D025BB02 ,  4D025BB09 ,  4D025CA02 ,  4D025CA03 ,  4D025CA04 ,  4D025CA05 ,  4D025CA06 ,  4D025CA10 ,  4D025DA01 ,  4D025DA03 ,  4D025DA05
引用特許:
審査官引用 (9件)
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