特許
J-GLOBAL ID：200903073306128984
感放射線性樹脂組成物
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-245978
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072921
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 解像度、PED安定性が優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、パターン形状にも優れ、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)p-ヒドロキシスチレンに代表される繰返し単位と(メタ)アクリル酸t-ブチルに代表される繰返し単位とを有する共重合体、および(B)放射線の照射により3つ以上のふっ素原子を有するスルホン酸を発生する化合物と、放射線の照射によりふっ素原子を全くもたないスルホン酸を発生する化合物との組み合せからなる感放射線性酸発生剤を含有する。
請求項（抜粋）：
(A)下記式(1)で表される繰返し単位(1)と下記式(2)で表される繰返し単位(2)とを有する共重合体、【式1】〔式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕、【式2】〔式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 は炭素数4〜10の3級アルキル基を示す。〕、および(B)2種以上の化合物からなる感放射線性酸発生剤を含有し、前記(B)成分を構成する化合物の少なくとも1種が放射線の照射により「3つ以上のふっ素原子を有するスルホン酸」を発生する化合物からなり、かつ前記(B)成分を構成する化合物の少なくとも1種が放射線の照射により「ふっ素原子を全くもたないスルホン酸」を発生する化合物からなることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
